- Київ+380960830922
Ви є тут
Введіть ключові слова для пошуку дисертацій:
Влияние природы полимерной матрицы, фоточувствительного генератора кислоты и физических факторов на литографические свойства химически усиленных фоторезистов
Тип роботи:
Кандидатская
Рік:
2012
Артикул:
327082 179 грн
Рекомендовані дисертації
- Анионная сополимеризация α, ω-дигидроксиолигодиметилсилоксана с органоциклосилоксанами
- Фотоинициированное ароматическими кетонами и хитонами сшивание полиэтилена
- Синтез и свойства водорастворимых производных гемина и хлорина Е6
- Контролируемая радикальная полимеризация виниловых мономеров в присутствии источников стабильных радикалов
- Влияние pH среды на олигомеризацию в реакциях аминокислот с изотиоцианатами
- Превращения полимеров винилхлорида под действием температурно-сдвиговых деформаций
- Полимеризация бутадиена-1,3 на модифицированных неодимовых каталитических системах
- Поверхностные и деформационно-прочностные свойства композиций на основе поливинилхлорида и бутадиенакрилонитрильных эластомеров
- Растворы целлюлозы и ее производных в неводных средах и пленки на их основе
- Взаимосвязь кинетических и структурно-физических факторов в процессах радикальной сополимеризации моно- и полифункциональных (мет)акрилатов