- Київ+380960830922
Ви є тут
Введіть ключові слова для пошуку дисертацій:
Влияние природы полимерной матрицы, фоточувствительного генератора кислоты и физических факторов на литографические свойства химически усиленных фоторезистов
Тип роботи:
Кандидатская
Рік:
2012
Артикул:
327082 179 грн
Рекомендовані дисертації
- Влияние состава растворителя и гамма-облучения на взаимодействие молекулы ДНК с координационными соединениями платины
- Влияние структурных особенностей ароматических полиимидов на их транспортные свойства
- Химическая микроструктура полиизопропена и полиалкенамеров по данным ЯМР 1Н и 13С
- Полимерные гидрогели на основе сшитого поливинилового спирта
- Компьютерное моделирование функциональных наносистем на основе блок-сополимеров
- Закономерности получения и свойства фотополимерных композитов на основе полисульфона и полимеризационноспособных соединений
- Морфология разветвленных иономерных систем : Компьютерное моделирование
- Синтез и свойства карбоксилсодержащих сорбционно-активных привитых сополимеров
- Синтез, свойства и разработка термостойких, ударопрочных материалов на основе полиарилатсульфонов
- Особенности отверждения эпоксидных олигомеров ксилитана ангидридами ди- и тетракарбоновых кислот