Ви є тут

Теоретический анализ формирования концентрационных профилей ионов в металлических материалах при воздействии пучками вакуумно-дуговых источников

Автор: 
Мельникова Татьяна Сергеевна
Тип роботи: 
Кандидатская
Рік: 
2011
Артикул:
325288
179 грн
Додати в кошик

Вміст

ОГЛАВЛЕНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
Массоперенос при ионном облучении твердых тел и способы его
описания
1.1. Физические процессы при взаимодействии ускоренных ионов с твердым телом.
1.1.1. Низкие дозы ионного легирования
1.1.2. Высокие дозы ионного легирования.
1.2. Основные подходы при описании концентрационных профилей внедряемых ионов
1.2.1. Метод статистических испытаний.
1.2.2. Метод моментов.
1.2.3. Метод прямого решения уравнения переноса частиц в пространстве энергийуглов.
1.2.4. Полиэнергетическая ионная имплантация
1.2.5. Обобщенное уравнение массопсрсноса.
1.3. Постановка задач исследования
Модель формирования концентрационных профилей при воздействии ионными пучками вакуумнодуговых источников.
2.1. Модель формирования концентрационных профилей при высокодозовой ионной имплантации
2.2. Влияние диффузионных процессов.
2.2.1. Массоперенос, обусловленный радиационностимулированной диффузией.
2.2.2. Массоперенос, обусловленный термической диффузией
2.3. Модель формирования концентрационных профилей в режиме имплантации с растущим покрытием на поверхности мишени
ГЛАВА З
Анализ массопереноса при высокодозовой имплантации металлических материалов пучком источника Радуга5.
3.1. Характеристики вакуумнодугового ионноплазменного источника Радуга5.
3.2. Анализ формирования концентрационных профилей титана при облучении технически чистого никеля
3.3. Особенности имплантации ионами алюминия.
3.3.1. Формирование профилей в технически чистом никеле и железе
3.3.2. Формирование профилей в титане марки ВТ10 в режиме имплантации с растущим газометаллическим покрытием
3.3.2Л. Модель без учета влияния формирующейся пленки.
3.3.2.2. Модель, учитывающая рост пленки на поверхности
ГЛАВА
Анализ формировании концентрационных профилей внедряемых ионов при имплантации пучком источника Диана2 металлических материалов с различным структурным состоянием.
4.1. Характеристики вакуумнодугового источника Диана2
4.2. Анализ концентрационных профилей алюминия и никеля при имплантации титана марки ВТ 10 с различной зеренной структурой
4.3. Анализ концентрационных профилей в металлических материалах при облучении тяжелыми элементами
ЗАКЛЮЧЕНИЕ.
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ