- Київ+380960830922
Ви є тут
Введіть ключові слова для пошуку дисертацій:
Влияние природы полимерной матрицы, фоточувствительного генератора кислоты и физических факторов на литографические свойства химически усиленных фоторезистов
Тип роботи:
Кандидатская
Рік:
2012
Артикул:
327082 179 грн
Рекомендовані дисертації
- Радикальная трехмерная сополимеризация пара-дивинилбензола и малеинового ангидрида
- Закономерности синтеза полиэфирсульфонов, полиэфиркетонов и сополимеров на их основе
- Поликонденсация диорганодиалкоксисиланов в активной среде
- Синтез полимеров на основе 1-галогенпропан-2-тионов и 1,3-дибромпропан-2-тиона и их использование для создания полимер-силикатных нанокомпозитов
- Формирование полимерных нанослоев на твердой поверхности
- Радикальная гомо- и сополимеризация винил-2-гидроксиэтилсульфида
- Разработка новых материалов на основе композиций тиокол-диенстирольный термоэластопласт и исследование их свойств
- Синтез полимерных суспензий с узким распределением частиц по размерам в присутствии полимеров разной молекулярной массы в качестве стабилизаторов
- Системы пероксиды-комплексные соединения переходных металлов для инициирования радикальной полимеризации метилметакрилата
- Исследование термодеформационного поведения элементов структуры аморфных и полукристаллических полимерных систем