Радиационное повреждение и графитизация алмаза при ионной имплантации

Оглавление
Введение. Общая характеристика проблемы. Цели работы
Глава 1. Литературный обзор
7.. Природа радиационного повреждения алмаза при ионной имплантации и моделирование методом МонтеКарло.
1.2. Результаты исследований комбинационного рассеяния
радиационноповрежденных слоев в алмазе
1.3. Результаты исследований электрической проводимости ионноимплантированного алмаза
1.4. Результаты исследований резерфордовского обратного рассеяния
имплантировапнь 1.x аюев в алмазе
1.5. Микроструктура радиационноповрежденных слоев в алмазе
1.6. Вспухание материала
Глава 2. Радиационное повреждение алмаза при ионной имплантации и графнтнзацня
2.1. Экспериментальный подход
2.1.1. Образцы
2.1.2. Экспериментальные методики
2.2. Критерии оценки радиационного повреждения алмаза при ионной имплантации
2.3. Оптическое поглощение и вспухание алмаза при ионной
имплантации
2.3.1. Оптическое поглощение
2.3.2. Вспухание материала
2.3.3. Зависимость радиационного, повреждения от дозы
импшитации
2.3.4. Зависимость радиационного повреждения от
температуры имплантации
2.4. Отжиг ионноимплантированного алмаза
2.4.1. Трансформации радиационных дефектов при отжиге
2. 4.2. Отжиг материала с радиационным повреждением выше критического и графитизация
2.4.3. Оптическая интерференция
2.4.4. Вспухание над графитизированным слоем
2.4.5.1 рафитизация поликристаллических ненок
2.4.6. Промежуточные выводы
Глава 3. Свойства и применение графитизированных слоев в алмазе
3.1. Эллипсометрическое исследование графитизированных слоев
3.1.1. Метод спектральной эллипсометрии
3.1.2. Результаты эллипсометрических измерений
3.1.3. Оптические свойства графитизированных слоев
3.2. Плотность графитизированного материала и его свойства
3.2.1. Плотность графитизированного материала
3.2.2. Электрические свойства графитизированного материала
3.2.3. Замечания о свойствах графитизированного матер паза
3.3. Применение графитизированных аюев
3.3.1. Термодатчик
3.3.2. Диод Шоттки
Глава 4. Особенности графитизации при имплантации изотопов водорода
4.1. Имплантация дейтерия
4.1.1 Отжиг алмаза, имплантированного О.
4.1.2. Высокотемпературный отжиг и феномен островковой графитизации
4.2. Имплантация водорода
4.2.1. Графитизация и блистеринг
4.2.2. Высокотемпературный отжиг имплантированного
водородом алмаза
4.2.3. Изучение графитизированных островков
4.2.4. Поиск СН связей
4.2.5. Изучение пузырей
4.3. Сравнение результатов имплантации Не, 1У и
Глава 5. Заключение
5.1. Направленность работы
5.2. Результаты защищаемые положения
5.2.1. Описание радиационного повреждения алмаза при ионной имплантации с помощью оптического пропускания и вспухания
5.2.2. Свойства графитизированного материала
5.2.3. Особенности имплантации изотопов водорода
5.2.4. Блистеринг и изучение пузырей
5.3. Публикации
5.4. Благодарности
Библиография