Содержание
Состояние вопроса обзор литературы
Физические свойства термоэмиссионных дисперсных катодов.
1.1.1. История создания современных термоэмиссионных
катодов.
1.1.2. Основные принципы работы термоэмиссионных дисперсных катодов.
Исследование механизмов работы термоэмиссионных катодов
1.2.1. Эмиссия
1.2.2. Ионная бомбардировка.
1.2.3. Катодное отравление
Применение термоэмиссионных катодов в современной СВЧ
технике.
Задачи работы.
Методики экспериментального исследования
Выращивание монокристаллов высокочистых тугоплавких металлов методом электроннолучевой зонной плавки.
2.1.1. Основные методы выращивания кристаллов.
2.1.2. Электроннолучевая зонная плавка.
2.1.3. Установка для выращивания монокристаллов тугоплавких
кристаллов.
Структурный и элементный анализ монокристаллов
2.2.1. Определение ориентировки монокристалла по Лауэ.
2.2.2. Анализ структуры поверхности методами оптической и
электронной микроскопии
2.2.3. Рентгеновская топография поверхности.
2.2.4. Метод кривых качания.
2.2.5. Метод дифракции медленных электронов.
2.3. Анализ объемного содержания примесей и химического состава
поверхности.
2.3.1. Нейтронноактивационный анализ для определения
концентрации кислорода.
2.3.2. Комплексное определение концентрации углерода
2.3.3. Методы массспектрометрии и атомной эмиссии
2.3.4. Метод Ожеэлектронной спектроскопии
2.4. Метод рассеяния медленных ионов
2.5. Выводы по главе
Глава 3 Исследование свойств эталонных кристаллов
3.1. Выращивание монокристаллов и бикристаплов
3.2. Металлографические исследования поверхности
3.3. Исследование монокристаллов Мо и с помощью РМИ
3.4. Исследование бикристаллов Мо и У с помощью РМИ
3.5. Выводы по главе
Глава 4 Специфика анализа поверхности гермоэмиссионных катодов
4.1. Количественное определение состава поверхности с малой работой
выхода методом РМИ на примере ВаУ0
4.2. Анализ поверхности термоэмиссионных дисперсных катодов.
4.2.1. Эксперименты на бариевых катодах методом РМИ
4.2.2. Верхний атомный слой
4.2.3. Особенности РМИ при малых работах выхода
4.2.4. Толщина покрытия и работа выхода поверхности
4.2.5. Роль поверхностного кислорода
4.2.6. Роль поверхности катодной матрицы
4.3. Выводы по главе.
Глава 5. Исследование поверхности промышленных термоэмиссионных
катодов
5.1. Введение.
5.2. Эксперимент
5.3. Динамическое равновесие поверхностных процессов.
5.4. Процесс распыления активного слоя.
5.5. Процессы пополнения поверхностного слоя.
5.6. Толщина покрытия и эмиссионные характеристики при
динамическом равновесии.
5.7. Повреждение поверхности, вызванное ионной бомбардировкой
5.8. Ионная бомбардировка в атмосфере кислорода
5.9. Исследование процессов деградации термоэмиссионных катодов,
применяемых в СВЧ приборах.
5 Выводы по главе
Общие выводы по диссертационной работе
Приложение
Литература
- Київ+380960830922